Дальнейшее развитие полупроводниковых технологий связано с переходом на новые приборные структуры – такие, например, как круговые затворы (gate-all-around, GAA), предлагающие значительный рост производительности на технологических уровнях с минимальными размерами топологических элементов. Однако при этом существенно увеличивается сложность технологического процесса, что делает точную метрологию производственных GAA-процессов как более важной, так и более сложной задачей.