Вопросы дальнейшего масштабирования ИС тесно связаны с перспективами развития литографии с использованием предельной УФ-области спектра (EUV, длина волны излучения EUV-степперов – ​13,5...

Компания ZEISS (Оберкохен, ФРГ) представила две новые технологии реконструкции, использующие для улучшения сбора и анализа данных и значительного ускорения принятия решений искусственный интеллект...

Корпорация XP Power представила серию 19-дюймовых программируемых источников питания постоянного тока с номинальной мощностью 1500 Вт и высотой 4,445 см (1U).

Relativity Space – ​американский стартап, который планирует объединить 3D-печать и искусственный интеллект, чтобы сделать для ракетостроения то, что Генри Форд совершил в автомобильной...

Производители ИС осваивают новые технологические процессы с меньшими топологиями и борются за снижение уровня дефектности. Традиционно возникновение дефектов связывалось с непредвиденными...

Инженеры из Университета Мэриленда создали новую многокомпонентную технологию трехмерной нанопечати.

Вопросы контроля качества всегда были важны для изготовителей изделий микроэлектроники. Существуют два метода – ​разрушающий и неразрушающий. Первый основан главным образом на выборочном...

Инновационный процесс EUV-литографии, использующей источник излучения в предельной УФ-области спектра (длина волны излучения – ​13,5 нм) – ​технология следующего поколения, которую ...

3D-принтеры открыли новые, революционные возможности для различных отраслей промышленности, включая автомобилестроение, авиакосмическую промышленность, сельское хозяйство, строительство и т. ...

Глубокое понимание поведения оборудования и потребностей рынка будет все сильнее влиять на всю цепочку поставок полупроводниковой промышленности. Производители полупроводникового оборудования...