ВЫБОР РЕДАКЦИИ

Материалы Симпозиума SEMI по промышленной политике

EUV-литография: достоинства и недостатки методик однократного и многократного формирования рисунка

Платформа EUV Zenith корпорации Edwards и перспективы рынка материалов для литографии

SMIC: передовые технологии, производственная база и государственное финансирование

Состояние и перспективы развития производственной базы микроэлектроники

Современное состояние производственной базы микроэлектроники

Состояние рынков интегральных схем, оборудования и пластин

Сбываются ли планы КНР по обеспечению самодостаточности в области ИС?

Прогноз продаж полупроводникового оборудования

Тенденции развития современных производственных мощностей

Huawei остается ведущим поставщиком оборудования связи

SEMI о состоянии полупроводниковой промышленности

SEMI о состоянии полупроводниковой промышленности

SEMI о состоянии полупроводниковой промышленности

Некоторые аспекты развития 3D‑флэш-памяти NAND-типа

Освоение КНР 14- и 7-нм технологических процессов

Освоение КНР 14- и 7-нм технологических процессов

Выпуск 7 (6706) от 09 апреля 2020 г.
РУБРИКА: БИЗНЕС

Китайская корпорация Semiconductor Manufacturing International (SMIC, Шанхай) – ​одна из наиболее передовых с технологической точки зрения фирм Поднебесной. На ее производственных мощностях выпускаются ИС по 14-нм технологическим процессам, разработанным во взаимодействии с корпорацией Qualcomm. Разумеется, руководство КНР возлагает на компанию большие надежды относительно реализации программы «Сделано в Китае 2025» (齌国薴謾2025) в части микроэлектроники. Однако США активно противодействуют намерениям SMIC разрабатывать новейшие технологические процессы, в частности 10-нм и7-нм процессы.

Опубликованные ранее сообщения о том, что крупнейший китайский кремниевый завод SMIC разрабатывает 7-нм технологический процесс, оказались неверными. На самом деле речь шла об улучшенной версии 14-нм FinFET-процесса SMIC (применяемой на новейшей производственной линии фирмы), получившей наименование N+1, которая по ряду параметров может конкурировать с 7-нм процессами зарубежных фирм. «Перескок» с 14‑нм на 7-нм технологии не удавался до сих пор и наиболее передовым микроэлектронным корпорациям (Intel, Samsung, TSMC).

По сравнению с существующим 14-нм процессом SMIC характеристики «систем-на-кристалле» (SOC), реализованных по процессу N+1, существенно улучшены (см. таблицу). По утверждениям специалистов SMIC, процесс N+1 с точки зрения потребляемой мощности и стабильности сравним с 7-нм ИС, выпущенными на рынок корпорациями Samsung (Сувон, Южная Корея) и TSMC (Синьчжу, Тайвань).


Таблица

Улучшение параметров 14-нм FinFET-процесса SMIC

Показатель

Улучшение параметров процесса N+1 по сравнению с базовым процессом, %

Увеличение производительности

20

Снижение энергопотребления

57

Сокращение площади SoC, занимаемой логическими элементами

63

Сокращение общей площади SoC

55


Для производства приборов по процессу N+1 не нужна EUV-литография. Но если SMIC сумеет добиться получения заказанного EUV-оборудования от ASML (Велдховен, Нидерланды) – ​единственного в мире поставщика оборудования этого типа на данный момент, – ​то оно будет использовано при разработке процесса N+2 (предположительно 10 или 7 нм). Реализации сделки активно противодействуют США [1]. В настоящее время китайские микроэлектронные фирмы не могут сами производить новейшие ИС. Продажа им необходимых оборудования и технологий запрещена Вассенаарскими соглашениями (заменившими КОКОМ), цель которых – ​поддержать отставание ряда стран, в частности КНР и РФ, от уровня передовых западных стран не менее чем на два технологических поколения.

В конце января 2020 г. в газете Het Financieele Dagblad было опубликовано заявление посла КНР в Нидерландах, где говорится, что, если торговые отношения между двумя странами будут продолжать политизироваться, это приведет к негативным последствиям. Данное заявление сделано в связи с тем, что нидерландское правительство по-прежнему отказывается продлить лицензию, позволяющую корпорации ASML экспортировать в Китай установки пошагового экспонирования, работающие на источниках EUV-излучения. Эти установки необходимы для отработки технологий и производства ИС с топологическими нормами 10/7 нм и менее.

Срок действия экспортной лицензии ASML истек 30 июня 2019 г., при том что сроки обновления подобных лицензий обычно не превышают восьми недель. Отмечается, что последние шесть месяцев правительство США активно лоббировало в правительстве Нидерландов идею отказа от продления экспортной лицензии. Получателем установок EUV-литографии является крупнейший в КНР кремниевый завод SMIC, один из ведущих исполнителей общекитайской программы «Сделано в Китае 2025» по направлению микроэлектроники [2], которое, в свою очередь, входит как составная часть в направление «Информационные технологии». К десяти выделенным стратегическим направлениям развития также относятся авиакосмическое и железнодорожное оборудование, медицинские приборы, новые перспективные материалы, океанотехника и высокотехнологичные суда, различное контрольно-измерительное оборудование и робототехника, сельскохозяйственные машины и оборудование, электрическое оборудование, энергосберегающие технологии и транспортные средства на новых источниках энергии.

Интересно, что до начала американо-китайской торговой войны на вопрос строгости соблюдения Вассенаарских соглашений по отношению к КНР власти США смотрели сквозь пальцы. Действительно, 14-нм технологический процесс SMIC разработала в сотрудничестве с американской корпорацией Qualcomm (Сан-Диего, шт. Калифорния). Последняя пошла на это, чтобы обеспечить себе гарантированный доступ к производственным мощностям для своевременного выпуска на рынок прикладных процессоров Snapdragon в необходимых объемах и должного качества.


1. 齌銗国际倳“渦产7nm? 你们误会羛欸嵉撂硨痹: https://www.eet-china.com/news/202003131444.html 

2. Clarke Peter. China Warns Netherlands over Blocked ASML Export. EE News Europe, January 16, 2020: https://www.eenewsanalog.com/news/china-warns-netherlands-over-blocked-asml-export?news_id=124721


ЧИТАЙТЕ ТАКЖЕ