Onto Innovation: новая комплексная метрология для управления критическими размерами в производстве

Onto Innovation: новая комплексная метрология для управления критическими размерами в производстве

Выпуск 13 (6712) от 09 июля 2020 г.
РУБРИКА: ОБОРУДОВАНИЕ

Корпорация Onto Innovation представила набор из трех оптических метрологических решений для управления технологическими процессами. Набор ориентирован на полупроводниковые приборы следующего поколения – ​3D-схемы флэш-памяти NAND-типа, 5/3-нм логические приборы и перспективные ДОЗУ. Предполагается, что за счет совместного использования трех решений, улучшенных оптических средств метрологии и усовершенствованного с помощью машинного обучения ПО удастся обеспечить высокую точность и производительность процесса метрологии.

При разработке новых метрологических решений Onto Innovation использует свой традиционный подход (см. рисунок) и действует в тесном взаимодействии с клиентами. Поэтому отзывы на новое предложение корпорации не заставили себя ждать. Выяснилось, что анализ данных с использованием современных логических приборов и схем памяти, применяемый Onto Innovation, тесно связан с метрологическими лабораторными стандартами ее клиентов, такими как контроль критических размеров при помощи растровой (сканирующей) электронной микроскопии (CD-SEM) и просвечивающей электронной микроскопии (TEM). Это означает, что клиенты могут и дальше использовать высокоскоростные оптические метрологические системы без необходимости применения рентгеновской технологии.

В случае передовых 3D-схем флэш-памяти NAND-типа проблемы, связанные с измерением отверстий каналов с аспектным отношением, намного превышающим 80:1, вынуждают клиентов обращаться к рентгеновским инструментальным средствам с меньшим, чем у оптической метрологии, быстродействием и к другим разрушающим методам измерения. Аналогично, в случае современных ДОЗУ и логических приборов, сложных транзисторных структур и новых материалов на топологиях 5/3 нм клиентам требуются новые методы метрологии для критических этапов формирования круговых затворов и нанолистов. Компания Onto Innovation разработала три платформы, выводящие оптические технологии на новый уровень, обеспечивающие преимущества как высокой чувствительности, так и высокой производительности, а также предоставляющие клиентам информацию со скоростью и качеством, необходимыми для разработки процессов и массового производства.



Источник: Onto Innovation Inc.

Обобщенный метрологический процесс корпорации Onto Innovation


Метрология 3D-NAND, ДОЗУ и логики

Новая метрологическая система Atlas V предназначена для измерения нескольких ключевых этапов, включая формирование заглубленных топологических элементов, невидимых CD-SEM и другими методами. Чувствительность метрологии Atlas V позволяет измерять эти этапы с высокой точностью и чувствительностью, расширяя возможности оптических решений для нового поколения приборов и устраняя необходимость в других, более медленных методах управления процессом.

Технология Atlas V обеспечивает производительность, необходимую для разработки клиентами приборов с круговыми затворами, и работает в 100 раз быстрее, чем рентгеновские решения для этих структур. Клиенты Onto Innovation, аттестовавшие эту новую технологию оптического контроля критических размеров (OCD), утверждают, что достигнутые скорость и разрешение когда-то считались лежащими за пределами возможностей оптических технологий.


Система IMPULSE V

Система IMPULSE V обеспечивает увеличенную производительность и улучшенные эксплуатационные характеристики интегрированной метрологии следующего поколения и отличается высокой надежностью. IMPULSE V позволяет осуществлять бесперебойную совместную работу с системами химико-механической полировки (CMP) и обеспечивает высокопроизводительный текущий контроль итоговых значений критических этапов технологического процесса. В целях непрерывной настройки и оптимизации производства предусмотрено взаимодействие систем IMPULSE V и Atlas V. Используя новейшую технологию машинного обучения, технология IMPULSE V поддерживает внутриприборную метрологию, обеспечивая широкую гибкость и высокий охват технологического процесса.


Перспективная метрология 3D-NAND

Новая метрологическая система Aspect – ​это революционная оптическая платформа, предназначенная для текущих и будущих задач контроля перспективных 3D-схем флэш-памяти NAND-типа. Емкость памяти увеличивается как при масштабировании пар слоев, так и на уровне этажерок памяти из более чем 200 пар слоев. Технология Aspect была разработана с учетом этих будущих архитектур и стратегий масштабирования. Производительность метрологии Aspect превосходит производительность рентгеновских систем применительно ко многим пользовательским приборам. Это достигается благодаря революционной ИК оптической системе, обеспечивающей возможность полного профилирования и позволяющей контролировать критические измерения процессов травления и осаждения с необходимыми клиентам скоростью и охватом процесса.


Дифракционное моделирование на основе ИИ как основа набора метрологических решений

Основной компонент всех трех входящих в набор метрологических решений – ​технология дифракционного моделирования на основе искусственного интеллекта. Этот программный аналитический механизм, лежащий в основе всех трех метрологических систем, позволяет решать задачи на 90% быстрее. Кроме того, технология дифракционного моделирования на основе ИИ расширяет возможности популярного в отрасли ПО NanoDiffract® за счет использования широких возможностей машинного обучения и высокой точности моделирования. Результат – ​улучшение производительности метрологии и значительное сокращение этого процесса.

Сейчас все входящие в набор решения доступны для тестирования избранными клиентами. Коммерческая реализация намечена на IV кв. 2020 г.


Onto Innovation Announces Suite of Three New Metrology Systems for Complete Critical Dimension Process Control. Semiconductor Digest, June 9, 2020: https://www.semiconductor-digest.com/2020/06/09/onto-innovation-announces-suite-of-three-new-metrology-systems-for-complete-critical-dimension-process-control/


ЧИТАЙТЕ ТАКЖЕ